Gruppenleitung Coating Metrology (m/w/x)

Enabler für kleinere, leistungsfähigere und energieeffizientere Mikrochips.

Arbeiten, wo das Morgen entsteht.

Was darf bei keinem Smartphone fehlen?

Genau, der Mikrochip – das Herzstück eines jeden elektronisch gesteuerten Systems. Rund 80 Prozent aller Mikrochips weltweit werden mit ZEISS Technologien gefertigt. ZEISS ist Technologieführer im Bereich Halbleiterfertigungs-Equipment. Mit hochpräzisen Lithographie-Optiken, Photomasken-Systemen und Lösungen für die Prozesskontrolle ermöglicht ZEISS die Herstellung von immer kleineren, leistungsfähigeren und energieeffizienteren Mikrochips – und prägt so mit seinen Innovationen das Zeitalter der Mikro- und Nanoelektronik entscheidend mit.

Ihre Rolle

Du möchtest den Motor der Digitalisierung in einem interdisziplinären Umfeld mitgestalten? Du kannst eine Gruppe führen und entwickeln, begeisterst Dich für Technik und hast ein Händchen im Umgang mit Menschen? In der Entwicklungsabteilung Coating Metrology der ZEISS Sparte Semiconductor Manufacturing Technology formen wir gemeinsam die Zukunft der Halbleiterlithografie mit Messprozessen und Konzepten zur höchstgenauen Charakterisierung der Schichtsysteme unserer Optiken. Unsere Aufgabe ist es, Konzepte und fertigungstaugliche Messprozesse zu entwickeln, beginnend mit ersten Ideen und der Technologieentwicklung bis hin zur Performanceabsicherung im Fertigungsbetrieb. Wir stehen für hohe Fachexpertise, hohe Selbstverantwortung, ein sehr motivierendes Umfeld und eine Kultur des gemeinsamen Wachsens. Klingt spannend? Dann schau Dir an, ob Du Dich in folgendem Rollenprofil wiedererkennst: Deine Rolle:

die disziplinarische und fachliche Leitung der Arbeitsgruppe für EUV Schichtmesstechnik mit ca. 10 Mitarbeitern

die Kompetenzen und Ressourcen in den Bereichen Schichtmesstechnik, insbesondere Messgenauigkeit und Messprozess im Team sicherstellen und weiterentwickeln

gemeinsam mit Deinem Team die Konzeptionierung und Realisierung von Anforderungen zur Messgenauigkeit und Kapazität auf EUV-Reflektometrie Bestandsanlagen zu entwickeln, sowie deren entwicklerische Betreuung zu verantworten

die strategische und fachliche Ausrichtung der Gruppe in Abstimmung mit Kunden, Projekten und der Roadmap gestalten und optimieren

Deine Mitarbeiter führen und weiterentwickeln, sowie gruppeninterne Prozesse optimieren

mit Deinem Team der entwicklerische Ansprechpartner für die Fertigung sein, insb. bei neuartigen Störungen

interne und externe Schnittstellen bedarfsgerecht koordinieren und ausbauen

Ihr Profil

abgeschlossenes naturwissenschaftliches Hochschulstudium, gerne auch mit Promotion

eine deutlich ausgeprägte Führungskompetenz und Erfahrung in der Führung und Steuerung von Teams und/oder Projekten

mehrjährige Berufserfahrung in einem komplexen technischen Umfeld – idealerweise bereits im Bereich von Konzeptionierung, Design und Entwicklung höchstgenauer optischer Messsystem oder Messprozesse

Spaß daran, Mitarbeitende zu motivieren, zielorientiert zu steuern und somit ein leistungsstarkes Team zu formen

eine ausgeprägte Kommunikations- und Sozialkompetenz, ein souveränes Auftreten sowie eine hohe intrinsische Motivation

sehr gute Englisch- und Deutschkenntnisse

Your ZEISS Recruiting Team:

Jonas Weickenmeier, Liz Torres